2025新品
4T PVD（薄膜沉积设备）
产品简介：1.具备全自动、符合半导体SEMI行业标准的工业控制软件
2. 各种成熟的、2-8英寸的RF、DC、PDC、反应等薄膜沉积工艺
3. 成熟、可靠、低成本、高产能、7/24连续运行的薄膜沉积系统
4. 小尺寸，低成本的磁控溅射系统
5. 广泛应用于欧美光学、MEMS、存储等工业界的薄膜沉积
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