常规产品
高纯金靶及金颗粒
产品简介：高纯金靶
纯度：≥99.999%
制备：真空熔炼
尺寸：可定制
形状：平面、旋转、颗粒等
工艺：溅射镀膜、蒸发镀膜
常规产品
高纯金靶及金颗粒
产品简介：高纯金靶
纯度：≥99.999%
制备：真空熔炼
尺寸：可定制
形状：平面、旋转、颗粒等
工艺：溅射镀膜、蒸发镀膜