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NE-RE08是一款干法等离子去胶设备，适用于4/6/8英寸晶圆光刻胶去除和灰化工艺。设备采用高密度RIE等离子体刻蚀系统，具有去胶速率快、均匀性好、选择比高、不错的各向异性等性能优势。

大气等离子清洗机是一款在大气环境下进行表面清洗、活化、改性的等离子清洗产品，可以用来提高产品的粘接性，亲水性，印刷等性能，也可以用来去除材料表面的有机物、油污、氧化层等污染物。主要应用于产品表面印刷、封装、贴合、镀膜、焊接、粘胶、涂覆的前道工艺，具有设备简单、可在线集成实现连续生产、成本低廉等优点。

真空等离子清洗机，作为一种精密干法清洗设备，适用于混合集成电路、单片集成电路管壳和陶瓷基板的清洗；可应用于半导体、厚膜电路、元器件封装前、硅片刻蚀后、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，可去除金属表面的油脂、油污等有机物及氧化层。还可应用于塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。